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在本實(shí)施例中，所述副爐室升降驅(qū)動(dòng)裝置12的結(jié)構(gòu)和加料器升降驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)一致，所述副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置13的結(jié)構(gòu)和加料器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)也一致。為了防止在副爐室3移動(dòng)到取晶位的過(guò)程中，因晶棒掉落而出現(xiàn)事故，連續(xù)拉晶單晶爐還包括在副爐室3移動(dòng)到取晶位的過(guò)程中用于承接晶棒的電動(dòng)接晶托，所述電動(dòng)接晶托包括提升桿、用于承接晶棒的托板153、電動(dòng)推桿152、接晶托電機(jī)154和固定管151，所述電動(dòng)推桿152連接在副爐室旋臂14上，所述提升桿連接在電動(dòng)推桿152的推桿上，以便通過(guò)推桿的升降帶動(dòng)提升桿升降，所述接晶托電機(jī)154連接在提升桿上，所述托板153連接在接晶托電機(jī)154的輸出軸上，以便通過(guò)接晶托電機(jī)154驅(qū)動(dòng)托板153旋轉(zhuǎn)，所述固定管151套裝在提升桿和電動(dòng)推桿152的推桿的外側(cè)，所述固定管151連接在副爐室旋臂14上。

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權(quán)利要求1、一種直拉式單晶生長(zhǎng)爐，包括設(shè)于該爐頂部并伸入爐內(nèi)的輸入管(12)、與輸入管(12)相連通的環(huán)形氣體分布器(11)；其特征在于經(jīng)輸入管(12)輸入的氣壓為0.8×10a0.9×10a，流量為30L/min。2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的直拉式單晶生長(zhǎng)爐，其特征在于還包括 設(shè)于該爐的坩堝支持器(14)下方和該爐底部的排氣口 (13)之間的氣流 導(dǎo)向裝置(20);該氣流導(dǎo)向裝置(20)為碗形，其包括設(shè)于氣流導(dǎo)向裝 置(20)底部的中軸孔(2-1)、設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)的一對(duì)電 極孔(2-2)、以及設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)并與該爐的排氣口 (13)相 對(duì)的通氣孔(2-3);該爐的石墨中軸(21)分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，權(quán)利要求1、一種直拉式單晶生長(zhǎng)爐，包括設(shè)于該爐頂部并伸入爐內(nèi)的輸入管(12)、與輸入管(12)相連通的環(huán)形氣體分布器(11)；其特征在于經(jīng)輸入管(12)輸入的氣壓為0.8×10a0.9×10a，流量為30L/min。2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的直拉式單晶生長(zhǎng)爐，其特征在于還包括 設(shè)于該爐的坩堝支持器(14)下方和該爐底部的排氣口 (13)之間的氣流 導(dǎo)向裝置(20);該氣流導(dǎo)向裝置(20)為碗形，其包括設(shè)于氣流導(dǎo)向裝 置(20)底部的中軸孔(2-1)、設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)的一對(duì)電 極孔(2-2)、以及設(shè)于所述中軸孔(2-1)兩側(cè)并與該爐的排氣口 (13)相 對(duì)的通氣孔(2-3);該爐的石墨中軸(21)